ISO9001 ASTMチタニウムの回転式ターゲット耐食性

チタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 133OD*125ID*2940LはフランジASTM B861-06をチタニウムの回転式ターゲット含んでいる

管ターゲット技術の開発傾向は川下産業の薄膜の技術の開発傾向と密接に関連している。フィルムのプロダクトまたは部品の応用企業の科学技術の改善によって、ターゲット技術はまた変わるべきである。さらに、近年、フラット パネル ディスプレイ（FPD）はまたITOターゲットの技術そして市場の需要を非常に高める陰極線管（CRT）によって支配されるディスプレイおよびTVの市場を非常に取り替えた。さらに、ストレージ技術の点では。高密度の、高容量のハード・ドライブおよび高密度rewritable光ディスクのための要求は続け適用工業のターゲット プロダクトのために、要求の変更に導く増加し。次に、私達はターゲットの主要出願分野およびこれらの分野のターゲットの開発傾向をもたらす。
真空メッキは高真空の下にめっきされた部品（金属、半導体、または絶縁体）の表面で蒸発し、凝縮するために金属か非金属材料を熱する方法である。
真空メッキは真空の適用の分野の重要な面である。科学研究および実用的な生産を提供することを、物理的なか化学方法を使用して、真空の技術におよび吸収の一連の新技術電子ビーム基づいて、のようなフィルムの準備の新しいプロセス分子線、イオン ビーム、血しょうビーム、RFおよびマグネトロン、である。真空の金属、合金または混合物を沈殿させるか、または沈殿させる単に話すこと、方法は真空メッキと呼ばれる上塗を施してある目的（基質、基質、または基質）でなされる。

主な利点

1. 低密度および高い指定の強さ
2. 顧客の要求カスタム化
3. 優秀な耐食性
4. 熱の効果へのよい抵抗
5. 低温学の特性への優秀な軸受け
6. よい熱特性
7. 低い弾性係数