Displayerのための物理的な蒸気沈殿CGDチタニウムGr2の管ターゲット
等級 | Gr2 | 包装 | 木の場合の真空パック |
---|---|---|---|
色 | 灰色かダーク グレーの金属光沢の輝やき | 適用 | 半導体、電子、displayer、等 |
原産地 | 宝鶏市、シャンシー、中国 | 標準 | ASTM B861-06 |
証明 | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015 GJB9001C-2017 | 形 | 管 |
ハイライト | CGDのチタニウムGr2の管ターゲット,物理的な蒸気沈殿管ターゲット,Displayerのための125mmの管ターゲット |
133OD*125ID*2940Lはフランジのチタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06を目標資料の真空メッキ含んでいる
名前 | チタニウムの管ターゲット |
標準 |
ASTM B861-06 |
輸送のパッケージ |
木の場合の真空パック |
起源 |
宝鶏市、シャンシー、中国 |
港の渡すため |
西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 |
サイズ | φ133*φ125*2940 (フランジを含みなさい) |
管ターゲット技術の開発傾向は川下産業の薄膜の技術の開発傾向と密接に関連している。真空メッキの技術は2つのタイプに一般に分けられる:物理的な蒸気沈殿(PVD)および化学気相堆積(CVD)。
物理的な蒸気沈殿(CGD)は基質の表面に原子、分子または分けられたイオンに真空の下にさまざまで物理的な方法の使用によって直接コーティング材料を沈殿させる方法である。堅いフィルムの準備は物理的な蒸気沈殿によって主に行う。それは材料の熱蒸発のような物理的なプロセスを使用するか、またはイオン衝突によって物質的な表面の原子の放出させることによって根本資料からの薄膜に原子の制御可能な移動プロセスを実現できる。物理的な蒸気沈殿技術にフィルム間のよい付着の利点がおよび基質、ユニフォームおよび密なフィルム、制御可能なフィルム厚さ、広いターゲット幅、広い放出させる範囲、厚いフィルムの沈殿、安定した合金のフィルムの準備およびよい反復性ある。同時に、物理的な蒸気沈殿技術は高速度鋼のおよび超硬合金の薄膜のカッターの最終的な加工技術として処理の温度が500の摂氏温度の下で制御することができるので使用することができる。物理的な蒸気沈殿技術の適用は切削工具の切断性能を非常に改善できる。高性能および高い信頼性装置を発達させることで、適用分野はまた高速鋼鉄、超硬合金および陶磁器の切削工具で、特に拡大された。
物理的な蒸気沈殿技術の適用は切削工具の切断性能を非常に改善できる。高性能および高い信頼性装置を発達させることで、適用分野はまた高速鋼鉄、超硬合金および陶磁器の切削工具で、特に拡大された。
主な利点
低密度の高い指定の強さ
注文の要求カスタム化
優秀な耐食性
よい熱抵抗
優秀な低温の性能
よい熱特性
低い弾性率