133OD*125ID*2940L真空メッキの管はOEM ODMを目標とする

133OD*125ID*2940Lはフランジのチタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06を目標資料の真空メッキ含んでいる

管ターゲット技術の開発傾向は川下産業の薄膜の技術の開発傾向と密接に関連している。真空メッキの技術は2つの部門に一般に分けられる:物理的な蒸気沈殿（PVD）技術および化学気相堆積（CVD）の技術。
物理的な蒸気沈殿技術は真空の条件の下でいろいろ物理的な方法、原子、分子に蒸発するかまたは直接マトリクス法の表面で沈殿するイオンに、分かれている板材の使用を示す。堅い反応フィルムの準備は物理的な蒸気沈殿方法によって大抵なされる。それは根本資料からのフィルムに原子の制御可能な移動プロセスを実現するためにイオンによって衝撃されたとき、物質の熱蒸発または物質の表面の原子の放出させることのようなある物理的なプロセスを、使用する。物理的な蒸気沈殿技術によいフィルム/基盤接着力、ユニフォームの利点があり、密集したフィルム、制御可能なフィルム厚さ、広い目標資料、広い放出させる範囲は、厚いフィルム沈殿させることができる安定した合金のフィルムはおよびよい反復性準備することができる。同時に、物理的な蒸気沈殿技術はHSSのために最終的な加工技術として処理の温度が500℃の下で制御することができるので使用することができ、超硬合金の薄膜用具を。高い信頼性装置がより多くの詳細な研究のための高速度鋼、堅い合金およびセラミック工具で、適用分野、特に切削工具の切断の性能が物理的な蒸気沈殿プロセスの拡大される非常に改善することができ、ので高性能を開発している間使用によって。
化学気相堆積の技術はガス段階の援助が付いている膜の要素または混合物の供給基準量を、か大気圧の化学気相堆積を含む金属マトリックスの作成方式の化学反応の表面の基質、か混合物のフィルム、主に、低圧の化学気相堆積含んでいる元素ガスで、CVDおよびPVD血しょうの両方の特徴が化学気相堆積、等ある。

主な利点
低密度の高い指定の強さ
注文の要求カスタム化
優秀な耐食性
よい熱抵抗
優秀な低温の性能
よい熱特性
低い弾性率