ASTM B861-06 Aの電子チタニウムの管ターゲット

133OD*125ID*2940Lはフランジのチタニウムの管ターゲット チタニウムGr2 ASTM B861-06を目標資料の真空メッキ含んでいる

目標資料の技術の開発傾向は川下産業の薄膜の技術の開発傾向と密接に関連している。薄膜のプロダクトまたは部品の応用企業の科学技術の改善によって、ターゲット技術はまた変わるべきである。すべての適用工業では、半導体の企業はターゲット放出させるフィルムのための最も厳しい品質要求事項を要求する。今度は12インチの（300の）シリコンの薄片は製造され、結合の幅は減っている。シリコンの薄片の製造業者は要求するターゲットのために目標資料によりよい微細構造があるように大型、高い純度、低い分離および微粒子を要求する。水晶粒子の直径そして均等性はフィルムの溶着速度に影響を与えるキー ファクタとして考慮された。フラット パネル ディスプレイ（FPD）は陰極線管（CRT）によって長年にわたって支配されるコンピュータ モニターおよびテレビのための市場にあった。それはまたITOターゲットの技術そして市場の需要を運転する。この頃は、2種類のiTOターゲットがある。1つはナノのインジウムの酸化物の焼結であり、錫の酸化物の粉は、他インジウムの錫の合金ターゲットである。ITOの薄膜はDCの反応に放出させることによって作り出すことができるがターゲット表面は放出させる率を酸化させ、影響を与え、大型の金ターゲットを得ることは容易ではない。ストレージ技術の点では、高密度および大容量のハード ディスクの開発は多量の巨大な磁気抵抗のフィルム材料を要求する。CoF~Cuの多層合成のフィルムは巨大な磁気抵抗の薄膜の構造でこの頃は広く利用されている。

主な利点
低密度の高い指定の強さ
注文の要求カスタム化
優秀な耐食性
よい熱抵抗
優秀な低温の性能
よい熱特性
低い弾性率