133mmの耐熱性チタニウムの管はGT19001を目標とする
証明 | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015; GJB9001C-2017 | Brand name | Feiteng |
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型式番号 | チタニウムの管ターゲット | 包装 | 木の場合の真空パック |
原産地 | 宝鶏市、シャンシー、中国 | 等級 | Gr2 |
指定 | ASTM B861-06 | サイズ | φ133*Iφ125*2140 |
ハイライト | チタニウムの管はGT19001を目標とする,Dia 133mmの耐熱性管ターゲット,Gr2耐熱性管ターゲット |
チタニウムの管ターゲットASTM B861-06 133OD*125ID*2140LチタニウムGr2
項目名前 |
チタニウムの管ターゲット |
サイズ | φ133*φ125*2140 |
等級 | Gr2 |
包装 | 木の場合の真空パック |
場所の港 | 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 |
チタニウムの特性は温度、形態および純度と密接に関連している。密なチタニウムは実際のところかなり安定している、しかし粉のチタニウムにより空気で自然発火を引き起こすことができる。チタニウムの不純物の存在はかなりチタニウムの身体検査、化学の、機械特性および耐食性に影響を与える。特に、ある間質性の不純物はチタニウムの結晶格子を歪め、チタニウムのさまざまな特性に影響を与えることができる。室温で、チタニウムの化学活動は非常に小さく、がフッ化水素酸のような少数の物質と反応できる温度が増加するとき、急速のチタニウムの増加の活動は、特に高温、多くの物質とチタニウムで激しく反応できる。チタニウムの製錬プロセスは800℃の上の高温で一般に遂行される、従って真空でまたは不活性大気の保護を受けて作動しなければならない。
コーティング ターゲットは適切な科学技術の条件の下に放出させるマグネトロンによって基質のさまざまな機能フィルムを形作る源放出させる塗装システムの複数のアーク イオンめっきまたは他のタイプである。簡単に言えば、目標資料は高速荷電粒子の衝突の目標資料である。、レーザーの異なった出力密度高エネルギーレーザー兵器で使用されたとき、異なった出力波形および異なった波長は異なったターゲット、別の殺害と相互に作用し、破壊の効果は作り出される。すべての適用工業の間で、半導体工業にターゲット放出させるフィルムのためのほとんどの厳しい品質要求事項がある。今日、12インチの(300鼻血)シリコン チップは作られた。ストレージ技術の面では、高密度の開発および大容量のハードディスクは多数のGMRのフィルムを要求する。CoF~Cuの多層合成のフィルムはGMRのフィルムで今広く利用されている。磁気光学ディスクのために必要とされる開発されるTbFeCoの合金の目標資料はそれ以上まだである。磁気光学ディスクはそれと持っている大きい収蔵可能量、長い耐用年数および繰り返された無接触消去可能な執筆の特徴を作った。
特徴
1. 低密度および高力
2.顧客によって必要なデッサンに従ってカスタマイズされて
3.強い耐食性
4.強い熱抵抗
5.低温の抵抗
6.熱抵抗