OD380*23mmの非磁気非有毒なチタニウム ターゲット

チタニウム ターゲットGr2 ASTM B381-06 OD380*23放出させるターゲット放出させる材料は放出させることを目標とする

コーティング ターゲットは適切な科学技術の条件の下に放出させるマグネトロンによって基質のさまざまな機能フィルムを形作る源放出させる塗装システムの複数のアーク イオンめっきまたは他のタイプである。簡単に言えば、目標資料は高速荷電粒子の衝突の目標資料である。、レーザーの異なった出力密度高エネルギーレーザー兵器で使用されたとき、異なった出力波形および異なった波長は異なったターゲット、別の殺害と相互に作用し、破壊の効果は作り出される。例えば、蒸気化のマグネトロンの放出させるコーティングは熱された蒸発のコーティング、アルミニウム フィルム、等変える別の目標資料を（アルミニウム、銅、ステンレス鋼、チタニウム、ニッケル ターゲット、等のような）、別のフィルム システムを得ることができるである（極度の堅く、耐久力のあるの、防蝕合金のフィルム、等のような）。

ぬれたコーティングの技術と比較されて、真空メッキの技術に次の利点がある:
（1）薄膜におよび基質に材料の幅広い選択があり、さまざまな機能の機能フィルムを準備するためにフィルム厚さは制御することができる。
（2）は薄膜を、きれいな環境真空の下で準備するためにおよび薄膜容易に汚染されない。従って、よいdensification、高い純度およびユニフォームのコーティングが付いているフィルムは得ることができる。
（3）フィルムと基質間の接着強さはよく、フィルムはしっかりしている。
（4）乾燥したコーティングは不用な液体か環境汚染を作り出さない。
真空メッキの技術は主に真空の蒸発、真空イオンめっき、真空のビーム沈殿、化学気相堆積を等放出させる真空含んでいる。化学気相堆積に加えて、他の方法に次の共通の特徴がある:
（1）いろいろな種類のコーティングの技術は熱する蒸発か、大気で多数のガスの分子によって当られなく放出させることの過程において形作られる、蒸気分子の動きを妨げられ、干渉されなく保障するように大気の不純物の悪影響を除去するように特定の真空の環境が要求する。
（2）すべてのコーティングの技術は源かターゲットがガスに蒸発のフィルムの材料を変えるように要求する。源またはターゲットの連続的な改善が原因で、フィルム作成材料の選択の範囲は非常に拡大された。金属、金属の合金、金属間化合混合物、製陶術または有機材料はさまざまな金属のフィルムおよび誘電性のフィルムと蒸発させまた異なった材料を同時に蒸発させることによって得ることができる。
（3）蒸発するか、または放出させたフィルム作成材料はめっきされるべき工作物が付いている薄膜の形成の過程においてフィルム厚さの均等性を保障するために正確に測定され、制御することができる。
（4）各フィルムは微調整弁によって酸素の多くの一部分を最低に減らし、そしてぬれたコーティングのために不可能である不活性ガスを満たす正確にコーティングの部屋の残りのガスの構成そして多くの一部分を、それにより蒸発材料の酸化を制御防ぎ、できる。
（5）はコーティング装置の連続的な改善が原因で、コーティング プロセス絶えず実現することができ工程の間にそれによりプロダクトの出力および環境への汚染を非常に改善しない。
（6）フィルムが真空でなされるので、フィルムの純度は高い、密度はよく、表面は処理しないで明るい。これはelectrodepositedフィルムおよび化学フィルムのそれよりよいフィルムの機械および化学特性を作る。

1. 低密度および高い指定の強さ
2.優秀な耐食性
3.熱の効果へのよい抵抗
4.低温学の特性への優秀な軸受け
5.非磁気および無毒
6.よい熱特性
7.低い弾性係数