真空メッキGr1のチタニウムの放出させるターゲット133OD*125ID*840L

チタニウムの管ターゲット チタニウムGr1 ASTM B861-06 133OD*125ID*840L放出させる真空メッキターゲット

コーティング ターゲットは適切な科学技術の条件の下に放出させるマグネトロンによって基質のさまざまな機能フィルムを形作る源放出させる塗装システムの複数のアーク イオンめっきまたは他のタイプである。簡単に言えば、目標資料は高速荷電粒子の衝突の目標資料である。、レーザーの異なった出力密度高エネルギーレーザー兵器で使用されたとき、異なった出力波形および異なった波長は異なったターゲット、別の殺害と相互に作用し、破壊の効果は作り出される。例えば、蒸気化のマグネトロンの放出させるコーティングは熱された蒸発のコーティング、アルミニウム フィルム、等は変える異なった目標資料を（アルミニウム、銅、ステンレス鋼、チタニウム、ニッケル ターゲット、等のような）、異なったフィルム システムを得ることができるである（極度の堅く、耐久力のある、anti-corrosion合金のフィルム、等のような）
直角磁界および電界は放出させたターゲット棒（陰極）と陽極の間で加えられ、必須の不活性ガス（通常Arのガス）は高真空の部屋で満ちている。永久マグネット形態250の磁界|高圧電界が付いている直角電磁場を形作る目標資料の表面の350 Gauss。電界の行為の下で、肯定的なイオンへのArのガス イオン化におよび電子、ターゲットは陰極の近くで磁界によってターゲット表面を高速で衝撃するターゲット表面に飛ぶためにおよび非常に影響を受けたのからのターゲットの行為および働くガス イオン化確率の増加からのある特定の否定的な圧力が、形作る高密度血しょう、ローレンツ力、速度の行為の下のArイオンをあるターゲットの放出させた原子は高い運動エネルギーと運動量の転換の主義におよびターゲットからフィルムの沈殿のための基質に飛ぶために続く。放出させるマグネトロンは2種類に一般に分けられる:放出させ、rfの放出させることDC。DCの放出させる装置の原則は簡単であり、金属を放出させるとき率は速い。放出させるRfは伝導性材料を放出させることに加えてより広く利用されていたり、また非導電材料、酸化物を準備するまた反応に放出させること窒素および炭化物および他の混合材料放出させることができる。無線周波数の頻度が高められれば、マイクロウェーブ血しょう放出させることになる。今度は、放出させる電子サイクロトロン共鳴（ECR）タイプ マイクロウェーブ血しょうは一般的である。

特徴

1. 低密度および高力
2.顧客によって必要なデッサンに従ってカスタマイズされて
3.強い耐食性
4.強い熱抵抗
5.低温の抵抗
6.熱抵抗