133mm*125mm*840mmのチタニウムの継ぎ目が無い管ターゲット耐食性

チタニウムの管ターゲット真空メッキターゲット133OD*125ID*840継ぎ目が無い管ASTM B861-06

コーティング ターゲットは適切な科学技術の条件の下に放出させるマグネトロンによって基質のさまざまな機能フィルムを形作る源放出させる塗装システムの複数のアーク イオンめっきまたは他のタイプである。簡単に言えば、目標資料は高速荷電粒子の衝突の目標資料である。、レーザーの異なった出力密度高エネルギーレーザー兵器で使用されたとき、異なった出力波形および異なった波長は異なったターゲット、別の殺害と相互に作用し、破壊の効果は作り出される。例えば、蒸気化のマグネトロンの放出させるコーティングは熱された蒸発のコーティング、アルミニウム フィルム、等は変える異なった目標資料を（アルミニウム、銅、ステンレス鋼、チタニウム、ニッケル ターゲット、等のような）、異なったフィルム システムを得ることができるである（極度の堅く、耐久力のある、anti-corrosion合金のフィルム、等のような）
近年、フラット パネル ディスプレイ（FPD）はまたITOの目標資料の技術そして市場の需要を運転する陰極線管（CRT）によって支配されるコンピュータ モニターおよびTVの市場に非常に影響を与えた。今日2種類のiTOターゲットがある。1つはインジウムの酸化物の混合によって焼結し、ナノメーターの国家の錫の酸化物の粉はインジウムの錫の合金ターゲットによって、他焼結する。ITOのフィルムはインジウム錫の合金ターゲットでdirect current反応に放出させることによって準備することができるがターゲット表面は酸化し、放出させる率は影響を受けて、大型の金ターゲットを得ることは困難である。この頃は、最初の方法は一般にL} IRFの反応放出させるコーティングを使用してITOの目標資料を、作り出すために採用される。それに速い溶着速度がある。そしておよび他の利点l.正確に基質にフィルムのフィルム、高い伝導性、よい一貫性、強い付着の厚さを制御できる。しかしターゲットを作ることはインジウムの酸化物および錫の酸化物が容易に一緒に焼結しないので困難である。通常、ZrO2、Bi2O3およびCeOは焼結の添加物として使用され、理論的な価値の93%~98%の密度の目標資料は得ることができる。ITOのフィルムの性能はこのように添加物と非常に関連している形作った。日本の科学者は添加物としてBizoを使用しからである、Bi2O3は820Crで溶け、L500 ℃を越える焼結の温度の部分は比較的純粋なITOターゲットが液体段階の焼結の条件の下で得ることができるのは、揮発した。そして酸化物の原料は必ずしも早いプロセスを簡単にすることができるnanoparticlesではない。純粋なITOのフィルムの抵抗に近いChuanとしてそのようなターゲットの使用によって得られるITOのフィルムの抵抗は8.1 ×10n cmである。FPDのサイズおよび伝導性ガラスはかなり熱く、伝導性ガラスの幅は3133_に達することができる。ターゲットの稼働率を、異なった形のITOターゲットは改善するためには、円柱のような、開発された。2000年に、州の開発計画の任務そして科学技術部は現在の開発のための優先順位の情報産業のキー フィールドへのガイドにITOの大きいターゲットを含めた。

特徴

1. 低密度および高力
2.顧客によって必要なデッサンに従ってカスタマイズされて
3.強い耐食性
4.強い熱抵抗
5.低温の抵抗
6.熱抵抗