133OD*125ID*840L真空メッキの管ターゲット乾燥したコーティング

チタニウムの管ターゲット チタニウムGr1 ASTM B861-06 133OD*125ID*840L真空メッキターゲット

真空メッキは高真空の条件の下でめっきされた部品（金属、半導体または絶縁体）の表面で蒸発し、凝縮し、方法のフィルムを形作るように、熱する金属または非金属材料を示す。
真空メッキは真空の適用の分野の重要な面である。それは、物理的なか化学方法を使用して、電子ビーム、分子線、イオン ビーム、科学研究および実用的な生産のための薄膜の準備に新しいプロセスを提供する血しょうビーム、無線周波数および磁気制御のような真空の技術および吸収の一連の新技術に基づいている。簡単に言えば、真空の蒸発または放出させることの金属、合金または混合物は怯固および沈殿方法の目的で（基質、基質またはマトリックスと呼ばれる）塗られるように、真空メッキを呼んだ。
それは薄膜がある材料の表面で塗られる限り、材料は多くの新しく、よく物理的な、化学特性があることができること有名である。70年代では、目的の表面のコーティングの主要な方法電気めっきしたりそしてelectrolessめっき。前は電気によって、電気分解イオンめっき電気分解、電解物従って別の電極の基質の表面としてコーティングの条件が、基質電気のよいコンダクターでなければなりフィルムの厚さが制御しにくいように、ある。後者は化学減少方法の使用で、フィルムの物質的な解決に準備されなければなりそして減少の反作用にすぐに加わることができるこのコーティング方法はだけでなく、悪いフィルムの結合強さであり、コーティングは均一ではないし、制御すること容易同時に深刻な汚染を引き起こす多数の廃液により作り出す。従って、ぬれたコーティング方法と呼ばれるこれら二つの種類のコーティング プロセスは非常に限られている。
真空メッキはぬれたコーティング方法に関連して上であり、通常乾燥したコーティングの技術と呼ばれる新しいコーティングの技術を、開発した。

特徴

1. 低密度および高力
2.顧客によって必要なデッサンに従ってカスタマイズされて
3.強い耐食性
4.強い熱抵抗
5.低温の抵抗
6.熱抵抗