低密度高力PVD CVD Gr1のチタニウムの管ターゲット

チタニウムの管ターゲット真空メッキターゲット チタニウムGr1 ASTM B861-06 133OD*125ID*840

コーティング ターゲットは適切な科学技術の条件の下に放出させるマグネトロンによって基質のさまざまな機能フィルムを形作る源放出させる塗装システムの複数のアーク イオンめっきまたは他のタイプである。簡単に言えば、目標資料は高速荷電粒子の衝突の目標資料である。、レーザーの異なった出力密度高エネルギーレーザー兵器で使用されたとき、異なった出力波形および異なった波長は異なったターゲット、別の殺害と相互に作用し、破壊の効果は作り出される。真空メッキは高真空の条件の下でめっきされた部品（金属、半導体または絶縁体）の表面で蒸発し、凝縮し、フィルム方法を形作るように、熱する金属または非金属材料を示す。真空メッキの技術は2つの部門、即ち物理的な蒸気沈殿（PVD）技術および化学気相堆積（CVD）の技術に一般に分けられる。物理的な蒸気沈殿技術は原子および分子に気化かイオンにさまざまで物理的な方法によって真空の条件の下でイオン化によって直接基質の表面の板材を沈殿させる方法を示す。特徴:
（1）いろいろな種類のコーティングの技術はことを熱する蒸発のフィルム材料または多くの大気ガスの分子の衝突、ブロックおよび干渉による蒸気分子の動きが、ない形作る放出させるプロセス保障し大気の不純物の悪影響を除去することを特定の真空の環境が、必要とする。
（2）いろいろな種類のコーティングの技術はガスにフィルム材料を蒸発させるために蒸発源かターゲットがある必要がある。源またはターゲットの連続的な改善が原因で、映画制作材料の選択の範囲は非常に拡大された。金属、金属の合金、金属間化合混合物、陶磁器か有機材料、いろいろな種類の金属および誘電性のフィルムは多層フィルムを得るために蒸気を発することができるかどうかまた異なった材料は同時に蒸気を発することができる。
フィルム厚さの均等性を保障するために（3）めっきされるべき工作物が付いているフィルムの形成の過程において蒸発または放出させるフィルム作成材料は、フィルム厚さより正確に測定され、制御することができる。

特徴

1. 低密度および高力
2.顧客によって必要なデッサンに従ってカスタマイズされて
3.強い耐食性
4.強い熱抵抗
5.低温の抵抗
6.熱抵抗