注文GB/T19001 1.5*3.3mmのハフニウムの餌

ハフニウム1.5*3.3の蒸発は包装の真空を小球形にする

真空メッキは、物理的な、か化学方法を使用して、科学研究および実用的な生産のための電子ビーム、分子線、イオン ビーム、イオン ビーム、無線周波数磁気制御一連の新技術の真空の技術および吸収に真空の適用分野、それの重要な面基づいている、新しいフィルムの準備プロセスを提供するためにである。簡単に言えば上塗を施してある目的で（凝固し、沈殿するように、真空の金属、合金または混合物を蒸発させるか、または放出させる方法は基質、基質またはマトリックスを）呼ばれる真空メッキと呼んだ。

利点:
異なった機能のいろいろ機能フィルムを準備するために（1）フィルムおよびマトリックス材料のフィルム厚さの幅広い選択は制御することができる。
（2）フィルムは真空の条件の下で準備される、環境はきれいである、フィルムは汚されて容易ではない従ってよい密度、高い純度およびユニフォームのコーティングが付いているフィルムは得ることができる。
（3）フィルムおよびマトリックスの接着強さはよく、フィルムはしっかりしている。
（4）乾燥したコーティングは不用な液体および環境汚染を作り出さない。
真空メッキの技術は主に真空の蒸発のめっき、真空の放出させるめっき、真空イオンめっき、真空のビーム沈殿、化学気相堆積および他の方法を含んでいる。CVDを除いて、他の方法に公有地で次の特徴がある:
（1）いろいろな種類のコーティングの技術はことをフィルム材料熱する蒸発の過程においてまたは衝突、ブロックおよび干渉の大気の多数のガスの分子による動きが、ない形作る放出させる蒸気の分子保障し大気の不純物の悪影響を除去することを特定の真空の環境が、必要とする。
（2）いろいろコーティングの技術はガスにフィルム材料を蒸発させるために蒸発源かターゲットがある必要がある。源またはターゲットの連続的な改善が原因で、膜材料の選択を、かどうか金属、金属の合金、金属間化合混合物の、陶磁器または有機材料非常に拡大したり、フィルムいろいろメタル・フィルムおよび誘電性の蒸発することができたり、また多層フィルムを得る同時に蒸発させた異なった材料である場合もある。
（3）フィルム厚さの均等性を保障するためにめっきされるべき工作物を持つフィルムの生成の過程においてフィルム材料から蒸発か、放出させることはフィルム厚さより正確な測定および制御のどれである場合もある。
（4）各フィルムは構成の微調整弁を通して正確に制御し、蒸発材料の酸化を防ぐために、最低の範囲に酸素の多くの一部分を減らしなさい、しかし満たすことができるコーティングの部屋の残りのガスの多くの一部分はまたぬれたコーティングのために可能ではない不活性ガスで。
（5）コーティング装置の連続的な改善が原因で、コーティング プロセスは連続的場合もあり、こうしてプロダクトのである、そして環境汚染の工程の出力を非常に改良する。
（6）フィルムの真空の状態、従って高い純度、よい小型であることのフィルムが原因で、機械を作り、フィルムの化学特性によってが電気めっきのフィルムおよび化学フィルムよりよい明るい表面は処理される必要はない。