ISO9001 2*5mmの蒸発のハフニウムの餌100g

ハフニウム2*5の蒸発は包装の真空パックを小球形にする

真空メッキは真空の適用の分野の重要な面である。それは真空の技術に基づき、電子ビーム、分子線、イオン ビーム、イオン ビーム、RFおよび磁気制御のような一連の新技術を吸収するために物理的なか化学方法採用する。それは科学研究および実用的な生産に新しいフィルムの準備プロセスを提供する。つまり、真空の金属、合金または混合物を蒸発させるか、または上塗を施してある目的で凝固し、沈殿するために放出させる方法は真空メッキと呼ばれる。

利点:
フィルム厚さを制御し、異なった機能の機能フィルムを準備するために（1） Aの広範囲フィルムおよび基質材料は選ぶことができる。
（2）フィルムは真空の下で準備される。環境はきれい、汚し易くない。よい密度、高い純度およびユニフォームのフィルムが付いているフィルムは得ることができる。
（3）フィルムに基質とのよい接着強さがあり、フィルムはしっかりしている。
（4）乾燥したコーティングは不用な液体および環境汚染を作り出さない。
真空メッキの技術は主に真空の蒸発、真空イオンめっき、真空のビーム沈殿、化学気相堆積を等放出させる真空含んでいる。CVDのほかに、他の方法に次の共通の特徴がある:
（1）いろいろな種類のコーティングの技術は特定の真空の環境が大気の不純物の悪影響を除去する大気の多数のガスの分子の衝突放出させること、妨害および干渉なしで熱する蒸発の過程においてか、形作られる蒸気分子の動きを保障するように要求する。
（2）さまざまなコーティングの技術は蒸発の源かターゲットがガスに薄膜材料を蒸発させるように要求する。源またはターゲットの連続的な改善が原因で、膜材料の選択の範囲は非常に拡大された。金属、金属の合金、金属間化合混合物、製陶術または有機材料はいろいろな種類の金属および誘電性のフィルムを蒸発また多層フィルムを同時に得るために異なった材料を蒸発できる。
（3）薄膜材料の蒸発かはねかかることはめっきされるべき工作物とのフィルムの形成の過程においてフィルム厚さのフィルム厚さの均等性を保障するためにより精密な測定および制御をすることができる。
微調整弁を通って（4）はまた、コーティングの部屋の残りのガスの構成そして多くの一部分酸素の多くの一部分を最も低い程度に減らし、ぬれたコーティングのために不可能である不活性ガスを満たすために正確に、蒸発の物質の酸化を制御する防ぎ、ことができる。
（5）は塗る装置の連続的な改善が原因で、コーティング プロセス絶えず遂行することができこうしてプロダクトの出力を非常に改良し、工程の環境を汚す。
膜の真空の状態のために（6）に、膜表面の処理のための高い純度、よい小型であることおよび必要性がない。これは電気版のフィルムおよび化学フィルムのそれに膜の目上の人の機械および化学特性を作る。